Laserový svařovací stroj

Rozsah výběru jádra vláknového laseru QCW: od 14 um do 200 um různé výběry vláknových jader, vypořádejte se s různými materiály, vyberte nejvhodnější vlákno; Výstup páru optických vláken má průměr bodu přímý účinek. Při stejné výstupní energii, velikost místa pozitivně koreluje s tavnou lázní. Současně platí, že čím menší je místo, tím silnější je síla vpichu, tím hlubší je hloubka tavení, různá vlákna lze vybrat jádro podle různých požadavků na svařování vhodným laserem .

Rozsah výběru jádra vláknového laseru QCW: od 14 um do 200 um různé výběry vláknových jader, vypořádejte se s různými materiály, vyberte nejvhodnější vlákno; Výstup páru optických vláken má průměr bodu přímý účinek. Při stejné výstupní energii, velikost místa pozitivně koreluje s tavnou lázní. Současně platí, že čím menší je místo, tím silnější je síla vpichu, tím hlubší je hloubka tavení, různá vlákna lze vybrat jádro podle různých požadavků na svařování vhodným laserem .

Rozsah výběru jádra vláknového laseru QCW: od 14 um do 200 um různé výběry vláknových jader, vypořádejte se s různými materiály, vyberte nejvhodnější vlákno; Výstup páru optických vláken má průměr bodu přímý účinek. Při stejné výstupní energii, velikost místa pozitivně koreluje s tavnou lázní. Současně platí, že čím menší je místo, tím silnější je síla vpichu, tím hlubší je hloubka tavení, různá vlákna lze vybrat jádro podle různých požadavků na svařování vhodným laserem .

Rozsah výběru jádra vláknového laseru QCW: od 14 um do 200 um různé výběry vláknových jader, vypořádejte se s různými materiály, vyberte nejvhodnější vlákno; Výstup páru optických vláken má průměr bodu přímý účinek. Při stejné výstupní energii, velikost místa pozitivně koreluje s tavnou lázní. Současně platí, že čím menší je místo, tím silnější je síla vpichu, tím hlubší je hloubka tavení, různá vlákna lze vybrat jádro podle různých požadavků na svařování vhodným laserem .

Laserový svařovací stroj šperků využívá technologii laserového nanášení, která využívá laserovou vysokou tepelnou energii a centralizovanou technologii svařování s pevným bodem. Povrchové teplo se přenáší a difunduje dovnitř. Řízením parametrů, jako je šířka laserového pulsu, energie, špičkový výkon a opakovací frekvence, se obrobek roztaví a vytvoří specifickou roztavenou lázeň. Pro své jedinečné přednosti je široce používán při zpracování zlatých a stříbrných šperků a svařování malých a středně velkých dílů.

Přijetí systému řízení výkonu pulzního laseru; Nabíjecí obvod využívá rezonanční nabíjení LC a úložiště energie využívá síť pro ukládání energie s indukčními kondenzátory pro napájení lampy. Řídicí obvod je založen na mikroprocesoru ARM, který dokáže nastavit výstupní energii a opakovací frekvenci napájecího zdroje; Systém má několik ochran pro zajištění nouzového odpojení hlavního napájení v abnormálních situacích.